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2017年9月14日

ギガフォトン、EUVパイロット光源で集光ミラー反射率低下量−0.4%/Bplsを達成

 ギガフォトンは2017年9月12日、半導体リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトンは、現在開発中のEUVスキャナ用レーザ生成プラズマ(LPP)光源について、最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源にて集光ミラー反射率低下量−0.4%/Bplsを達成し、ボトルネック解消へ大きく前進したと発表した。
 ギガフォトンは今夏、独自開発技術である磁場を使ったデブリ除去技術において、水素フローを最適化、実集光ミラーを搭載したパイロット光源での寿命試験を実施し、集光ミラーの反射率低下量、−0.4%/Bplsという値を達成した。この数値はミラー寿命3か月に相当する。

URL=http://www.gigaphoton.com/ja/news/5147







 

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