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2017年8月7日

17年の半導体設備投資額は前年比10%増、18年は微減を予想

 米の調査会社は2017年8月2日、2017年以降の半導体設備投資額の見通しを発表した。2017年の半導体設備投資額は前年比10.2%増の777億9450万米ドルとなった。メモリ、最先端ロジック向けの投資が加速、ウェーハ・レベルの装置需要が大幅に拡大した。ウェーハ・ファブ向け装置への投資額は同17.9%増の436億6100万米ドル、エッチング装置、CVD装置は前年比20%以上の成長を見込んでいる。その他の半導体向け投資額は同1.8%増の341億3350万米ドルとしている。
 しかし、同社では2018年、2019年は半導体設備投資が下降に向かうと見込んでいる。2018年は前年比0.5%減の774億4350万米ドル、2019年に同7.3%減の732億3950万米ドルと予想している。ウェーハ・ファブ装置は2018年が同0.1%増の436億9040万米ドル、2019年は同7.3%減の405億1580万米ドルとしている。

URL=http://www.gartner.com/newsroom/id/3776063


Gartner




 

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