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2017年7月11日

SCREEN、ミリ秒単位で加熱温度が制御できる新RTP装置を発表

 SCREENは2017年7月10日、イオン注入された不純物の活性化に最適な、フラッシュランプアニール装置「LAシリーズ」の最新機種「LA-3100」を開発、同日から販売を開始したことを発表した。
 今回開発した「LA-3100」は、ミリ秒単位で加熱温度のプロファイルを制御する同社独自の技術を活用し、瞬時に1000-1200℃までウェーハの表面を熱処理することに加え、アニール処理のアプリケーション域を大きく拡張する新機能を搭載している。また、従来の搬送系の設計を大幅に見直すことによって、より高いレベルでの酸素濃度管理を実現。特に酸化を嫌うチタン系膜のアニール処理にも適応できる。

URL=http://www.screen.co.jp/spe/information/SPE170710-3.html



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