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2017年4月10日

レーザーテック、EUVマスクブランクス欠陥検査装置を発表

 レーザーテックは2017年4月3日、EUVマスクブランクスの欠陥管理と歩留まりの向上に貢献する検査装置、EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置ABICS「E120」を製品化したことを発表した。
 同社は2011年からの5年間、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)による支援の下、株式会社EUVL基盤開発センター(EIDEC)との共同研究を進め、EUVマスクブランクス欠陥検査装置(Actinic Blank Inspection:ABI) の技術開発を行ってきた。今回、当社は共同研究で開発したABI装置の技術を適用し、EUV量産に対応した新たなEUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置を製品した。
 同装置はEUV光を用いた検査/レビュー方式を採用しているため、転写性欠陥の選択的な検出とEUV光による欠陥解析を行うことが可能となっている。これらの性能はEUVマスクブランクスの欠陥管理や歩留まり向上に大きく貢献する。
 新製品は、λ=13.5nmのEUV光源を採用、Actinic inspection を実現している。また、Mo/Si多層膜内部の転写性位相欠陥を高感度に検出できるようにしている。暗視野光学系による、高感度かつ高速な検査が可能となっている。また、高倍率のレビューによる高精度欠陥座標取得した。明視野/暗視野レビューによる欠陥解析を可能にしている。

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