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2017年2月23日

キヤノン、ナノインプリント向け量産用マスクレプリカ製造装置を製品化

 キヤノンは2017年2月23日、ナノインプリント技術を用いた半導体製造装置用のマスクを低コストで複製する、量産用マスクレプリカ製造装置「FPA-1100NR2」を製品化したことを発表した。同製品はナノインプリント用マスク向けに大日本印刷グループに納入することになっている。キヤノンは2004年から、ナノインプリント技術を用いた半導体製造装置の研究開発を続けている。
 「FPA-1100NR2」は、ナノインプリント技術を応用することにより、高価なマスターマスクのパターンを忠実かつ短時間にマスク部材に転写することができ、高い生産性でレプリカマスクを製作することが可能となる。これにより、ナノインプリント用マスクサプライヤの生産現場において、マスクの生産性を飛躍的に向上させ、ナノインプリント技術を用いた半導体デバイスの製造コストを大幅に削減することで、先端リソグラフィプロセスにおけるCoO低減を実現する。

URL=http://global.canon/ja/news/2017/20170223.html



FPA-1100NR2





 

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