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2017年2月16日

IMSとJEOL、マルチビーム方式マスク製造用EB描画装置を共同生産

  日本電子(JEOL)とオーストリアIMS Nanofabrication(IMS)社は2017年2月16日、業務提携の範囲を広げ、マルチビーム式マスク製造用電子ビーム(EB)マスク描画装置の共同生産を行うことで合意に達したことを明らかにした。IMSの「MBMW-101」の生産を行う。同製品は26万2000のプログラム可能なビーム(50keV)を搭載している。JEOLでは、6インチ・マスクブランクス製造に対応したエアベアリング真空ステージ・プラットフォームを提供する。
 同製品は100mmx130mmのマスク・レイアウト・フィールドの描画を10時間未満に短縮することができる。

URL=http://www.jeol.co.jp/news/detail/20170216.1750.html








 

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