.

半導体・FPD業界の出版社 デジタル家電 通信・ネットワーク 移動体通信/携帯電話 次世代FPD 投資/工場計画 アプリケーション FPD新製品 半導体新製品 製造装置・材料 FPD動向 半導体動向

2017年1月30日

日立ハイテクとPicosun、マイクロ波ECRプラズマを用いたALD装置を共同開発

 日立ハイテクノロジーズとフィンランドPicosun社は2017年1月30日、マイクロ波ECR (Electron Cyclotron Resonance) プラズマを利用した原子層堆積(Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition:PE-ALD) 装置を共同開発することを発表した。
 現在共同開発中のPE-ALD装置は、日立ハイテクのマイクロ波ECRプラズマ技術とPicosunのALD技術という、双方が長年培ってきた技術を組み合わせることで、プラズマによる成膜反応を促進させ、既存のPE-ALD装置よりも低温にて高品質の膜を生成することができるようになる。低温で高品質成膜が可能となったことで、今後の多機能化・微細化・三次元構造化・薄膜化に対して有力なソリューションとなる。 現在、複数の膜種について評価中であり、窒化膜や酸化膜などの膜については、300mmウェーハを用いて優れた膜質を確認済みとなっている。

URL=http://www.hitachi-hightech.com/jp/about/news/2017/nr20170130.html








 

EDリサーチ
お問い合わせ・ご質問は webmaster@edresearch.co.jp
(c) 2001 ED RESEARCH Co., Ltd. All rights reserved.

デジタル家電 通信・ネットワーク 移動体通信/携帯電話 次世代FPD 投資/工場計画 アプリケーション FPD新製品 半導体新製品 製造装置・材料 FPD動向 半導体動向