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2017年1月17日

2017年の半導体設備投資額は前年比3%増:Gartner社予想

 米の有力調査会社Gartner社は2017年以降の設備投資額予想を発表した。  半導体設備投資額は2016年には後半からNAND型フラッシュメモリ向けの投資が拡大したことから、前年比5.1%増の679億9400万米ドルとなった。
NAND型フラッシュメモリ向けの投資額は31億米ドルに達し、同製品向けウェーハプロセス向け装置への投資も拡大した。
 2016年が予想以上に成長したことから、2017年の投資規模は、前年比成長率は2.9%増の699億3660万米ドルに拡大するものと予想している。前年から2.2ポイントの低下となるが、堅実な成長を見込んでいる。ウェーハプロセス装置向けの投資額は同6.0%増の380億540万米ドル、ウェーハレベル・パケッケージング/組立装置向け投資額は同10.7%増の20億2680万米ドルと予想している。
 設備投資額は、2018年、2019年と前年比5%以上の成長が予想されている。2018年は同5.3%増の736億1350万米ドル、2019年は同6.4%増の783億5560万米ドルに拡大することが見込まれている。しかし、2020年には同3.3%減の757億9930万米ドルに縮小することを予想している。

URL=http://www.gartner.com/newsroom/id/3569017








 

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