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2017年1月4日

大日本印刷、次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化

 大日本印刷(DNP)は2016年12月16日、半導体用フォトマスクの製造において描画時間を大幅に短縮することが可能なマルチ電子ビーム(EB)マスク描画装置を導入し、次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化することを発表した。マルチ電子ビームマスク描画装置導入によるフォトマスク量産体制強化により、2019年に年間60億円の売上げを目指す。
 DNPは約5年間、半導体メーカーや描画装置メーカー等と協力して、マルチ電子ビームマスク描画装置の開発を進めてきた。今回導入する装置では、露光量を制御するアパーチャを特殊なものにすることで、単一の電子銃から約26万本の電子ビームを照射することができる。従来の方式では、次世代半導体用フォトマスクのパターン描画には、18時間以上最大で数日間要していたが、それぞれの電子ビームを高精度に制御しながら描画するとで、7nmプロセス向けフォトマスクでは描画時間を約10時間とすることが可能となる。また、今後さらに微細化の進む次々世代半導体用フォトマスクでも描画時間短縮を可能とする。
 DNPでは、今後大幅な需要増が見込まれる3D構造のNAND型フラッシュメモリでも活用されるナノインプリントリソグラフィ用テンプレートの製造にも今回の導入した装置を適用していく。

URL=http://www.dnp.co.jp/news/10129884_2482.html








 

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