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2016年11月8日

凸版印刷とSCIVAX、ナノインプリント事業で資本業務提携

 凸版印刷とSCIVAX(本社:神奈川県川崎市)は2016年11月1日、ナノインプリント事業の拡大を目的として、資本業務提携を行うことで合意したことを発表した。凸版印刷は同技術の開発で成功を収めているSCIVAXへ出資し、2016年11月中にSCIVAXの株式を25%超取得し筆頭株主になる。これにより凸版印刷はナノインプリント事業に本格参入する。
 両社は、凸版印刷が半導体用フォトマスクなどで培ったリソグラフィ技術やマスターモールド製造技術と、SCIVAXが持つ光学設計やナノインプリント加工技術を融合し、アプリケーション開発からマスターモールドの製造、最終製品の量産化まで一貫したサービスの提供を共同で開始する。
 さらに凸版印刷は、光学デバイスやSCIVAXの独自開発製品の量産化ニーズに対応するため、生産ラインを構築、2017年中に大面積ナノインプリントのサンプル出荷を開始する。 SCIVAXは独自に開発したナノインプリント技術をベースに、様々な分野においてナノインプリント受託加工サービスを世界で唯一、展開。現在、多数の実用化案件を受託している。すでにウェーハ加工を中心に複数の案件で量産受託製造を開始し、その実績は広く認められている。
 凸版印刷は、半導体用フォトマスクや、シリコンステンシルマスクなどの光学設計技術や超微細加工技術をベースにマスターモールドの製造を行なっています。また、液晶用カラーフィルタを世界各国の液晶パネルメーカーに提供するなど、大面積ガラス基板加工技術を保有している。
 この提携により、両社は大面積ナノインプリント量産技術の開発を加速させ、アプリケーションの開発から試作、量産までをトータルに提供するビジネスモデルを構築する。
 今後は、静脈認証などセキュリティにも利用される光学デバイス向けレンズアレイ、回折光学素子の製造、TVやモバイル、車載向けディスプレイなどで使用されるワイヤグリッド偏光板、バイオ、医療向け解析チップなどの製造にも応用していく。さらに、本提携により、光学設計シミュレーションによる構造提案や独自製品の開発を進めるとともに大面積ナノインプリント量産技術を実用化し、2020年度に約200億円の売上を目指す。
 SCIVAXは2014年から2015年にかけて株式会社産業革新機構、KISCOなどから出資を受け、ナノインプリント受託加工サービスの事業化に成功した。またSCIVAXが独自に開発した大面積一括成型加工技術については、凸版印刷との提携により、量産化に向けた技術開発を加速させる。

URL=http://www.toppan.co.jp/news/2016/11/newsrelease161101.html








 

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