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2016年11月7日

IBM ResearchとSCREENが最先端ロジックプロセス共同研究に合意

 SCREENセミコンダクターソリューションズは2016年10月12日、半導体製造においてキーとなる3機種の装置を、ニューヨーク州のIBM Researchアルバニー・ナノテク半導体リサーチセンターに納入することを発表した。
 対象となるのは半導体洗浄装置の「AQUASPIN SU-3200」、UVレーザーアニール装置の「LT-3100」、コータ・デベロッパ「DT-3000」で、EUV Center of Excellenceに導入され、IBM Researchの最先端半導体技術の研究開発をサポートする。SU-3200は、最先端の7nm以降の半導体製造において、微小パーティクルやパターン倒壊のないウエット洗浄プロセスを提供する。LT-3100はグループ会社でフランスに拠点を置くLaser Systems & Solutions of Europe SASU(LASSE)が製造し、IBM Researchはクリティカルレイヤの溶解温度での活性化および再結晶化など、ナノ秒単位で処理を行えるUVレーザーアニールの応用技術を評価する。さらに、DT-3000は、IBM ResearchにおいてEUV Center of Excellenceのリソグラフィーパターニングツールラインに導入され、Directed Self-Assembly(DSA)、Spin-On Dielectrics(SOD)、下層膜塗布の開発促進に活用される
。  これらの3機種は、米国ニューヨーク州立工科大学(State University of New York Polytechnic Institute)ナノスケール理工学カレッジ(CNSE)にあるIBM Research アルバニー・ナノテクのクリーンルームに、年内に導入される予定となっている。

URL=http://www.screen.co.jp/spe/information/SPE161012.html








 

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