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リソグラフィ技術T −実践的基礎と課題−

筆者:東木達彦(東芝セミコンダクター社)

発行日:2002年7月1日
体裁:B5変型判 76ページ

定価:2,625円(税込


ISBN:4-901790-10-2


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『光リソグラフィの各要素に関する基本事項の
理解と今後の課題について述べたレポート』

光リソグラフィ技術T −実践的基礎と課題 表紙 リソグラフィはマスク、露光装置、レジスト・プロセス、トラック、OPC、アライメント、計測など多岐にわたる要素技術からなるソリューション技術である。今後のリソグラフィは各要素技術の性能向上のみならず、リソグラフィ技術の各要素を統合するリソグラフィ設計技術が重要である。言い換えれば、各要素技術を単に揃えてもリソグラフィは実現できない反面、リソグラフィ設計こそリソグラフィ技術者の腕のみせどころである。本稿では、光リソグラフィ技術における各要素に関する基本的な事項の理解と、今後乗り越えねばならない課題についてリソグラフィを使う立場の視点で述べた。


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光リソグラフィ技術U −計測と制御−
光リソグラフィ技術V −実践的基礎と応用−


<目次>

 はじめに


第1章 リソグラフィの基礎

 1.1 リソグラフィ
 1.2 光リソグラフィ光学の基礎

 1.3 Low k1リソグラフィ

 1.4 今後の光露光技術


第2章 リソグラフィ設計

 2.1 はじめに
 2.2 ED-Tree

 2.3 リソグラフィ設計手順

 2.4 ドーズ・フォーカス・バジェット

 2.5 部分コヒーレント光学系

 2.6 レジスト・プロセスの取り込み

 2.7 今後のリソグラフィ設計


第3章 超解像技術

 3.1 はじめに
 3.2 変形照明法
 3.3 位相シフト・マスク
 3.4 今後の超解像


第4章 OPC技術

 4.1 はじめに
 4.2 OPCとPPC
 4.3 今後のOPC、PPCの課題


第5章 収差

 5.1 はじめに
 5.2 光線収差と波面収差
 5.3 ザイデル収差
 5.4 色収差
 5.5 ゼルニケ(Zernike)多項式
 5.6 RMS
 5.7 波面収差と強度の関係
 5.8 ゼルニケ敏感度(Zernike Sensitivity)
 5.9 今後の収差技術


第6章 光学系誤差

 6.1 はじめに
 6.2 偏光
 6.3 複屈折

 6.4 瞳透過率分布


第7章 重ね合わせ精度と測定技術

 7.1 はじめに
 7.2 重ね合わせとアライメント
 7.3 アライメント方式の選択
 7.4 重ね合わせ精度
 7.5 アライメント・マークTCAD技術

 7.6 今後の重ね合わせ精度向上技術


第8章 レジスト技術

 8.1 はじめに
 8.2 従来レジストと化学増幅型レジスト
 8.3 レジストの薄膜化
 8.4 エッジラフネス
 8.5 反射防止膜
 8.6 多層膜
 8.7 今後のレジスト技術


第9章 露光装置

 9.1 はじめに
 9.2 スキャン露光装置の利点
 9.3 同期精度と振動対策
 9.4 今後のスキャン動向と課題
 9.5 露光手段の選択おわりに


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2002年7月1日発行

光リソグラフィ技術T
−実践的基礎と課題


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