半導体・FPDおよび情報システム関連の出版社EDリサーチ社

微細CMOSトランジスタ技術


筆者:杉井 信之(日立製作所 中央研究所)

発行日:2008年2月20日発行
体裁:B5変型判 104ページ

定価:4,830円(税込)

ISBN:978-4-901790-67-3


ご購入はこちらから
購入案内

『歪Si技術、High-k 金属ゲート技術、
複数ゲート、3次元デバイス構造形成技術に
焦点を絞って最近の進展を解説』

微細CMOSトランジスタ技術
 CMOSデバイス開発の中で重要な技術と目されてくるようになった、歪Si技術、High-k 金属ゲート技術、複数ゲートないしは3次元デバイス構造形成技術に焦点を絞って最近の進展をまとめたものである。このような技術が導入されてきた背景には、微細化に伴って顕在化してきたさまざまな課題がある。それらは材料プロセス上の限界、材料物性上の限界、物理的限界などのさまざまな要因による。そこで本書では、背景となる微細CMOS特有の課題をまとめ、それらを解決する手段として各種技術を紹介するという構成とした。


関連書籍
CMOS RFIC業界分析
CMOS RFデバイス技術


<目 次>

 はじめに

 第1章 LSIの集積化とCMOSの微細化
  1.1 ムーアの法則とスケーリング則

  1.2 スケーリング則の破綻と電力爆発の危機
  1.3 ITRSロードマップ

 第2章 微細CMOSで発生する現象
  2.1 短チャネル効果

  2.2 トンネル現象によるリーク
  2.3 チャネルの量子化とゲート空乏化
  2.4 速度飽和と速度オーバシュート
  2.5 素子特性ばらつきの増大
  2.6 短チャネル化の限界

 第3章 微細化を持続させるための技術
  3.1 歪Si技術

  3.2 High-k・金属ゲート
  3.3 複数ゲートや3次元構造トランジスタ
  3.4 将来展望

 おわりに

  参考文献



杉井 信之
 (スギイ ノブユキ)
日立製作所 中央研究所
ソリューションLSI研究センタ ULSI研究部

1988年3月
 東京大学大学院工学系研究科化学エネルギー工学修士課程修了
1988年4月〜1991年3月
 (株)日立製作所中央研究所入社 超電導薄膜材料
1991年4月〜1994年3月
 財団法人国際超電導産業技術研究センター
 超電導工学研究所出向 超電導材料、薄膜技術
1994年4月〜1996年9月
 (株)日立製作所中央研究所
 超電導エレクトロニク ス、酸化物キャパシタ技術
1996年10月〜現在
 SiGeヘテロ構造、歪Siデバイス、SOIデバイスの
 研究開発 工学博士
 国立大学法人 東京工業大学 大学院総合理工学研究所
 連携教授

刊行物の一覧はこちら
半導体・FPD業界の最新ニュースはこちら

フォーカスレポート
Focus Report シリーズ


2008年2月20日発行

微細CMOSトランジスタ技術

定価:4,830円
(税込)
ISBN:978-4-901790-67-3


ご購入はこちらから  
購入案内

 

 

 

HOME
刊行物一覧
MAGAZINE
関連メーカーLINK
無料メールニュース
半導体・FPD関連ニュースなど最新の業界ニュースを毎週無料でお届け!
購読のご登録はこちら!

業界動向レポート
半導体中古装置情報分析2009
世界太陽電池会社情報2008
CMOS RFIC業界分析
これで完璧!世界半導体会社情報2008
半導体投資・ライン分析2008 〜 寡占化に向う最先端半導体ライン〜
半導体パッケージビジネス戦略2008
半導体産業業界地図2008 −半導体関連企業提携戦略−
アジア半導体主要工場の製造装置2007
電子機器 モジュール会社情報2007
FPD産業業界地図2007 -FPD関連企業提携戦略-
半導体工場データベースWorld Fab Watch(年4回更新:最新版08年11月)
半導体製造装置サポートビジネス2006
進化する半導体組立・テスト工程
液晶パネルの長期展望と課題
サムスン電子、LGフィリップスLCDのTFTLCD事業大研究
半導体製造装置の信頼度向上
半導体工場の未来像
ソリューションビジネスへの新展開

半導体・FPD関連の技術書
FR31SiC半導体の基礎と応用
FR30微細CMOSトランジスタ技術
FR29半導体パッケージの基礎技術
FR28有機トランジスタ
FR27ウェーハレベルCSP技術
FR26Low-kドライ・エッチング技術
FR25ナノ・プロセスに対応する半導体洗浄技術の基礎と課題
FR24a-Si TFT-LCD技術
FR23ダイナミック・リコンフィギュラブル・ロジック技術
FR22 CMOS RFデバイス技術
FR21 車載半導体の現状と課題
FR20 低温ポリSi TFT-LCD技術

FR19 光リソグラフィ技術V -実践的基礎と応用-

FR15 光リソグラフィ技術U −計測と制御−
FR2 光リソグラフィ技術T −実践的基礎と課題−
FR18 SOIデバイス技術-実践的基礎と応用-
FR17 CMPの実践的基礎技術
FR16 MEMS実用化への取り組みと課題
FR14 CCD/CMOSイメージセンサの基礎技術
(新訂版2004年4月)
FR13 システムLSIビジネス
FR12 多層配線技術の最新動向 −銅配線/低誘電率膜−
FR11 システム・オン・パネル技術の 現状と将来展望
FR9 モバイル機器向け燃料電池の最新動向
FR7 アクティブ型有機ELディスプレイ
FR6 FeRAM技術の基礎と課題
FR5 反強誘電性LCD
FR4 エッチング技術の最新動向
FR3 半導体製造プロセスにおける インライン検査技術の最新動向
FR1 電子ペーパーの現状と実用化への課題

インフォメーション
刊行物購読お申し込み
EDリサーチ社 会社案内
お問い合わせフォーム
 
EDリサーチ
お問い合わせ・ご質問は webmaster@edresearch.co.jp
(c) 2001 ED RESEARCH Co., Ltd. All rights reserved.
購入案内